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PVD(物理气相沉积)的优点_技术支持

PVD(物理气相沉积)的优点

作者: 来源: 日期:2015-3-10 8:15:47 人气:795
近二十年来 真空镀膜技术的应用越来越广泛。 已经成为当今最先进的表面处理方式之一。PVD(离子镀膜技术) 是在高真空的条件下,利用低电压.大电流的电弧放电技术.利用气体放电使靶材蒸发并使蒸发物质与气体产生电离.利用电场的加速作用使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件表面。PVD膜层具有高硬度.高耐磨性.耐腐蚀性.使镀膜工件的使用寿命更长。
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